半導体用マスク描画装置 SLX を受注
2021年8月10日 - Mycronic AB(マイクロニック、本社:スウェーデン、日本法人:マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長:呉 健治)は本日、半導体用フォトマスク描画装置SLXをアジア地域の既存顧客から受注したことを発表しました。受注金額の価格帯は400~700万USドルで、2021年第4四半期に出荷される予定です。 2019年に発表されたレーザーマスク描画装置SLXは、長期的なトレンドを背景に半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、今後予想される老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。半導体製造におけるフォトマスクの約70~75%がレーザーマスク描画装置によって描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。最新の半導体用マスク描画装置SLXは、マイクロニックのディスプレイ用マスク描画装置と同じ技術をベースにしています。 マイクロニック 描画装置担当上級副社長Charlott Samuelssonのコメント: 「SLXへ引き続きご関心をお寄せいただき、既存のお客様から新規のご注文を頂けたことを大変嬉しく思います。最新設計のSLXプラットフォームは、高い生産性と信頼性に優れたパフォーマンスをご提供します。これは、