ÄNNU ETT PATENT BEVILJAT FÖR OBDUCATS NANOIMPRINTTEKNIK

Obducat har erhållit ytterligare ett patent. På kort tid har nu tre patent beviljats inom NIL, ett av Obducats affärsområden. NIL står för NanoImprintLitografi. Det är en nyutvecklad teknik för reproduktion av mycket små mönster som kan användas för tillverkning av optokomponenter för fiberkommunikation, biosensorer för detektion av bakterier eller för framtida hårddiskar för datalagring.

Tekniken bryter den fysikaliska barriären som begränsar traditionell teknik för tillverkning av mönster som understiger 100 nanometer.

Efter presentationer i bl.a. Japan och USA har Obducat har fått flera testuppdrag av olika större företag för utvärdering av tekniken för industriella applikationer.

Nyligen har Obducat fått order på NIL-maskiner från två amerikanska universitet med avtal om att Obducat äger rätt till delar av den utveckling som sker.

För ytterligare information, v g kontakta Thomas Pileby, 040-36 21 00

Obducat utvecklar och levererar teknologier och processer för produktion och analys av mycket små strukturer och riktas till expansiva företag inom datalagrings-, halvledar-, kretskorts- och sensorindustrierna. Obducats teknologier omfattar egenutvecklad och patenterad etsteknik (EFAACE), elektronstråleteknik samt nanoimprintteknik. Obducat finns i Sverige och Storbritannien och har huvudkontor i Malmö. Aktien är noterad på NGM-listan. Läs mera på www.obducat.com

Prenumerera

Dokument & länkar