VIKTIGT PATENT BEVILJAT I JAPAN

(NGM: OBDU B)

OBDUCAT AB, världsledande leverantör av litografilösningar baserade på Nanoimprintlitografi (NIL) och Elektronstrålelitografi (EBR), har fått ett patent godkänt av det japanska patentverket. Patentet avser en viktig anti-stick teknik som utgör en central del i massproduktionstillverkningen baserad på NIL.

Obducats anti-stickteknologi minimerar den ömsesidiga påverkan mellan stampers och substrat under imprint- och separeringsprocessen. Ytan på stampern beläggs med ett anti-stick lager för att få detta att stöta bort partiklar och annan kontaminering samt att möjliggöra en snabbare och defektfri separering. Tack vare anti-sticklagret får stampen hög hållbarhet och därmed utökad livslängd vilken minskar den stamprelaterade kostnaden för imprintprocessen.

”Anti-stickteknologin är mycket viktig för vår massproduktionslösning eftersom den ökar hållbarheten och förlänger stampens livslängd, vilket leder till en lägre totalkostnad för litografiprocessen. Just kostnadseffektiviteten är en central faktor för de kunder som nu planerar en uppstart av produktion baserad på NIL. Ytterligare beviljade patent runt om i världen stärker vår konkurrenskraft och vår unikhet,” säger VD Patrik Lundström.

För ytterligare information kontakta:

Patrik Lundström, VD, 040 – 36 21 00 eller 0703 – 27 37 38

Henri Bergstrand, styrelseordförande, 040-36 21 00 eller 0708 - 88 72 45

Obducat AB utvecklar och levererar teknologier, produkter och processer för produktion och replikering av avancerade mikro- och nanostrukturer. Obducats tjänster och produkter riktar sig i första hand till expansiva företag inom datalagrings-, halvledar-, kretskorts- och sensorindustrierna. Obducats teknologier omfattar elektronstråleteknik och nanoimprintteknik. Obducat finns i Sverige och Storbritannien och har huvudkontor i Malmö. Aktien är noterad på NGM-listan. Läs mer på www.obducat.com