新製品：フォトマスクレーザー描画装置Sigma7700を発表

2010年11月24日－Micronic Mydata AB（マイクロニック・マイデータ、本社：スウェーデン、
日本法人：マイクロニックジャパン株式会社、東京都府中市、代表取締役社長：河田卓）は本日、
22nmテクノロジーノードまでの大部分のフォトマスク製造に対応するレーザー描画装置Sigma
7700を発表しました。DUVレーザーを搭載したSigmaシリーズの最新モデルであり、最先端
レーザー描画装置の新たな標準をご提供します。

Sigma7700の心臓部には第三世代SLM（空間光変調器)が採用され、これまでにない高精度を
実現します。高解像度キャリブレーションカメラとの組み合わせで、画質を新たな高みへと引き
上げました。Sigmaプラットフォームに加えられた系統的な改良により、位置精度をより厳しく制御
できるようになりました。本最新モデルには描画品質を更に向上させる新機能ミラーイコライザーを
搭載しました。

マイクロニック・マイデータ社長兼CEO　Peter Uddforsのコメント：
「先端半導体製造に必要なマスクの大部分は、レーザー描画装置で最もコスト効率良く描画する
ことが可能であり、Sigma7700はこの可能性を更に広げます。この装置は、半導体マーケットに
コスト効率の高い描画装置をご提供し続けるというマイクロニック・マイデータのコミットメントを示すものです。」


＊＊＊本件に関するお問い合わせ先＊＊＊
マイクロニックジャパン株式会社
Tel:　042-354-1329　　Fax:042-354-1321
広報担当　梁瀬　恵美子
E-mail:　info@micronic.co.jp