Micronic erhåller order på ett Sigma7500-system från en av Nordamerikas största halvledartillverkare

Täby, 4 december, 2008 - Micronic Laser Systems AB (OMX Nordic Exchange Stockholm, nordiska listan, Small Cap, Information Technology: MICR) erhöll idag order på ett Sigma7500-system från en av Nordamerikas största halvledartillverkare. Detta är den andra ordern på ett Sigma-system som Micronic erhållit under andra halvåret 2008. Systemet beräknas levereras före utgången av 2008.

”Dessa nyligen inkomna order på Sigma7500 är ett bevis på systemets värde för fotomasktillverkare som kostnadseffektivt behöver öka kapaciteten och samtidigt möta kraven på korta ledtider,” säger Sven Löfquist, koncernchef och VD för Micronic Laser Systems AB. ”Fotomaskmarknaden är utsatt både för en konjunkturnedgång och en strukturell förändring på grund av färre antal nykonstruktioner för avancerade tekniknoder under 100 nm. I denna marknadssituation vinner Sigma terräng och systemet är väl positionerat för att möta industrins behov av att minska kostnader.”

Sigma7500 är avsedd för avancerade tillämpningar inklusive integrerade kretsar från tekniknoden
90 nm ner till 45 nm. Den höga rithastigheten möjliggör en effektiv fotomaskproduktion och ger snabbare produktlanseringar i dagens halvledarindustri med ökande konkurrens.

Med dess olika ritmoder, 4-pass och 2-pass, kan Sigma7500 optimeras för olika nivåer av foto¬maskkrav. Den ultravioletta lasern med 248 nm våglängd samt optiken erbjuder den högsta produk¬tiviteten i kombination med den bästa litografiska prestanda som någon laserbaserad mönsterritare kan uppvisa och en rithastighet som är oberoende av mönsterkomplexitet. Med ett SLM-chip (Spatial Light Modulator) med en miljon speglar, ritar systemet komplexa foto¬maskmönster med en hastighet av 2 miljarder pixlar per sekund som ger en rittid på bara 1,5 timmar.


Kontaktperson:
Sven Löfquist
VD och koncernchef
Tel: 08-638 52 00
sven.lofquist@micronic.se