Micronic erhåller order på Sigma7500 från kund i Asien

Täby, 18 augusti, 2008 - Micronic Laser Systems AB (OMX Nordic Exchange Stockholm, nordiska listan, Small Cap, Information Technology: MICR) erhöll idag en order på en Sigma7500 från en halvledartillverkare i Asien. Systemet beräknas levereras under innevarande år.

”Halvledarindustrin ökar fokus på att minska kostnader för volymproduktion av chip och Sigma är en kostnadseffektiv lösning för att minska fotomaskkostnaderna,” säger Carl-Johan Blomberg, CFO för Micronic Laser Systems AB. ”Det är mycket glädjande att denna kund, efter en omfattande utvärdering, valt Sigma. Vi ser fram emot ett fortsatt samarbete när systemet sätts i produktion.”


Tillämpningar för produktserien Sigma är både binära och fasskiftande fotomasker för tekniknoderna 90, 65 och 45 nanometer. Utöver att systemen möter de successivt ökande kraven på upplösning och precision för dessa avancerade tekniknoder, så tillför de laserbaserade Sigma-systemen en produktivitet som är avsevärt högre än den för elektronstråleritare. Detta minskar kostnaden och tillverkningstiden för fotomasktillverkaren, vilket i sin tur minskar kostnader och ledtider vid utveckling av halvledarkretsar.

Den höga upplösningen och produktiviteten erhålls med systemets 248-nanometers excimerlaser tillsammans med Micronics patenterade ”Spatial Light Modulator” (SLM) teknik. En massiv parallell ”bitmappad” utskrift resulterar i korta rittider – endast två till tre timmar för avancerade fotomasker och är oberoende av mönstrets komplexitet och så kallad ”OPC”(Optical Proximity Correction).



Kontaktperson:
Carl-Johan Blomberg
CFO
Tel: 08-638 52 00
carl-johan.blomberg@micronic.se