OBDUCAT ERHÅLLER SITT FÖRSTA NIL-PATENT I JAPAN

Obducat har blivit underrättade om att den japanska patentmyndigheten kommer att bevilja ett patent avseende en funktionalitet inom Obducats NIL-teknik (nanoimprintlitografi), så kallad parallellisering. Denna teknik ger prestandafördelar i förhållande till konkurrerande parallelliseringstekniker.

Patentet fokuserar på så kallad parallellisering, vilken främjar ett högkvalitativt resultat från NIL-processen där mönster överförs från en stamper till ett substrat. Funktionen möjliggör ett jämt tryck över stora ytor, som leder till ett bättre imprintresultat, vilket ur ett tillverkningsperspektiv i sin tur leder till högre kostnadseffektivitet.

Obducats VD Patrik Lundström kommenterar:

“Det är mycket tillfredsställande att få vårt första NIL-patent beviljat i Japan. Detta är det första resultatet av ett beslut förra året att begära en snabbare granskningsprocess i Japan för våra viktigaste patentansökningar. När vi nu går vidare med Canon Marketing Japan, som gör det möjligt för oss att intensifiera utvärderingsprocessen i pågående kundprojekt och således snabbare låta dessa övergå till tillverkningsfasen, är det av betydelse att nyckelteknologierna är patentskyddade även i Japan.”

För vidare information kontakta:

Patrik Lundström, VD, 040 - 36 21 00 eller 0703 27 37 38

Henri Bergstrand, Styrelseordförande, 040 - 36 21 00 eller 0708 88 72 45

Obducat AB is an innovative developer and supplier of technologies, products and processes used for the production and replication of advanced micro and nano structures. Obducat’s products and services are intended to serve the demands of companies within the information storage, semiconductor, printed circuit board, and sensor industries. Obducat’s technologies include electron beam and nano imprint technology. Obducat has offices in Sweden and the UK, with the head quarters located in Malmö, Sweden. The Obducat shares are publicly traded on the Swedish NGM stock exchange.

Read more at www.obducat.com