半導体用マスク描画装置SLXを受注
2020年12月9日 - Mycronic AB(マイクロニック、本社:スウェーデン、日本法人:マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長:呉 健治)は本日、半導体用フォトマスク描画装置SLX をアジア地域の既存顧客から受注したことを発表しました。受注金額の価格帯は400~500万USドルで、2021年第3四半期に出荷される予定です。 2019年10月に発表されたレーザーマスク描画装置SLXは、長期的なトレンドを背景に半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、今後予想される老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。半導体製造におけるフォトマスクの約70~75%がレーザーマスク描画装置によって描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。最新の半導体用マスク描画装置SLXは、マイクロニックのディスプレイ用マスク描画装置と同じ技術をベースにしています。 マイクロニック 描画装置担当上級副社長Charlott Samuelssonのコメント: 「成長を続ける戦略的に重要な市場において、SLXを既存のお客様にご提供できる機会を得られたことを嬉しく思います。市場の高い関心を反映したSLXの導入により、マイクロニックはマスク描画装置分野での製品拡充および強化に至りました。」