OBDUCAT FÅR ETT NIL-PATENT BEVILJAT I USA

Obducat har fått ett NIL-patent beviljat i USA. Patentet avser moment inom nanoimprintlitografi (NIL), s.k. flerlagersresist.

Patentet fokuserar på s.k. flerlagersresist, vilket resulterar i en produktionsprocess som ger en större toleransnivå vid produktion av små strukturer. Processen kan användas både vid tillverkning av stampers såväl som imprints. Processen möjliggör därmed också högre kostnadseffektivitet vilket ytterligare förstärker den övergripande konkurrensfördel NIL erbjuder i förhållande till alternativa tekniker.

För ytterligare information kontakta:

Patrik Lundström, VD, 040 – 36 21 00 eller 0703 – 27 37 38

Henri Bergstrand, styrelseordförande, 040-36 21 00

Obducat AB utvecklar och levererar teknologier, produkter och processer för produktion och replikering av avancerade mikro- och nanostrukturer. Obducats tjänster och produkter riktar sig i första hand till expansiva företag inom datalagrings-, halvledar-, kretskorts- och sensorindustrierna. Obducats teknologier omfattar elektronstråleteknik och nanoimprintteknik. Obducat finns i Sverige och Storbritannien och har huvudkontor i Malmö. Aktien är noterad på NGM-listan. Läs mer på www.obducat.com