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2018 年ミレニアム技術賞は Tuomo Suntola 博士に。フィンランド物理学者のイノベーションが情報技術製品の製造・開発が可能に。

フィンランド人物理学者 Tuomo Suntola博士の革新的な技術である原子層堆積法(atomic layer deposition、以下ALD)のおかげで、私たちは高性能のスマートフォン、コンピューターやソーシャルメディアを享受できているのです。 ALD技術はまた医学や持続可能なエネルギーにも応用されようとしています。Sauli Niinistöフィンランド共和国大統領は2018年5月22日にヘルシンキで第8回ミレニアム技術賞を授与しました。隔年で授与される総額100万ユーロの ミレニアム技術賞  はTuomo Suntola博士に授与されました。Suntola博士に賞をもたらしたALD(原子層堆積法)というイノベーションは、全世界で使われているナノスケール技術です。ALDはマイクロプロセッサーやデジタル記憶装置に用いられる極薄層状物質の製作に利用されています。この技術により、単原子層ごとに複雑な三次元構造を作ることができるのです。 ALDは汎用性がある技術で、多くのハイテク部門で非常に役に立っています。 ALD技術で作製した薄膜が使われた部品が使用されていない現代のコンピューターやスマートフォンは実質的に皆無です。たゆまず進化するALD技術のおかげで、IT機器は小型化・

Tuomo Suntola 荣膺 2018 年千禧科技大奖 —— 这位芬兰物理学家的创新促成了信息技术产品的制造和发展。

芬兰物理学家Tuomo Suntola的创新技术“原子层沉积”(ALD)带来了使用智能手机、电脑和社交媒体的高效生活。ALD技术还提供医疗和可持续能源方面的应用。芬兰共和国总统Sauli Niinistö先生于2018年5月22日在赫尔辛基颁发了第八届千禧科技大奖。每两年举办一次、奖金为一百万欧元的千禧科技大奖 的得主是Tuomo Suntola博士。Suntola获奖的ALD(原子层沉积)创新是一项在世界各地广泛使用的纳米级技术。ALD用于制造微处理器和数字存储设备的超薄材料层。该技术实现了以单个原子层为基础的复杂三维结构的建造。 ALD是一项多用途技术,在众多高科技领域中发挥着重要作用。几乎所有的现代电脑和智能手机中都使用了ALD技术制成的薄膜组件。由于ALD技术的不断发展,IT设备变得越来越小巧,成本越来越低,但功能却愈发强大。Suntola的创新是著名的摩尔定律的有效性延续至今的关键因素之一:微晶片的效率约每两年翻一番,同时其价格却在下降。 微处理器和计算机存储设备所需的极薄的隔离或导电膜只能使用Tuomo Suntola开发的ALD技术来制造。 “ALD技术是隐藏于用户,但对可见发展至关重要的经典技术案例。ALD还使信息技术的所有权更加民主,

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