VIKTIGT PATENT BEVILJAT I JAPAN
(NGM: OBDU B) OBDUCAT AB, världsledande leverantör av litografilösningar baserade på Nanoimprintlitografi (NIL) och Elektronstrålelitografi (EBR), har fått ett patent godkänt av det japanska patentverket. Patentet avser en viktig anti-stick teknik som utgör en central del i massproduktionstillverkningen baserad på NIL.Obducats anti-stickteknologi minimerar den ömsesidiga påverkan mellan stampers och substrat under imprint- och separeringsprocessen. Ytan på stampern beläggs med ett anti-stick lager för att få detta att stöta bort partiklar och annan kontaminering samt att möjliggöra en