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半導体用マスク描画装置 SLX を受注

2021年4月13日 - Mycronic AB(マイクロニック、本社:スウェーデン、日本法人:マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長:呉 健治)は本日、半導体用フォトマスク描画装置SLX をアジア地域の既存顧客から受注したことを発表しました。今回受注したお客様指定仕様のSLXの価格帯は600~1,000万USドルで、2022年第1四半期に出荷される予定です。2019年に発表されたレーザーマスク描画装置SLXは、長期的なトレンドを背景に半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、今後予想される老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。マスク描画装置SLXは、マイクロニックのすべての最新鋭マスク描画装置で共有しているEvo コントロールプラットフォームを採用して設計されました。 マイクロニック 描画装置担当上級副社長Charlott Samuelssonのコメント: 「SLXへ大きなご関心をお寄せいただき、半導体分野で戦略的かつ非常に重要なお客様にSLXを追加でご提供できることを大変嬉しく思っています。成長を続ける半導体業界でフォトマスクを製造するお客様が要求される特長をSLXが有していることは明らかだと思います。」 マイクロニックはフォトマスクを製造するマスク描画装置を提供しており、

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