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半導体用マスク描画装置 SLX を 2 台受注

2021年2月26日 - Mycronic AB(マイクロニック、本社:スウェーデン、日本法人:マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長:呉 健治)は本日、半導体用フォトマスク描画装置SLX を米国の既存顧客から2台受注したことを発表しました。受注金額の価格帯は2台合計で800~1,200万USドルで、1台目は2021年第4四半期に、2台目は2022年上期に出荷される予定です。2019年10月に発表されたレーザーマスク描画装置SLXは、長期的なトレンドを背景に半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、今後予想される老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。半導体製造におけるフォトマスクの約70~75%がレーザーマスク描画装置によって描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。最新の半導体用マスク描画装置SLXは、マイクロニックのディスプレイ用マスク描画装置と同じ技術をベースにしています。 マイクロニック 描画装置担当上級副社長Charlott Samuelssonのコメント: 「既存のお客様からSLXマスク描画装置2台の納品をご依頼いただけたことを誇りに思います。SLXに対する市場からの大きな関心は、この製品が、

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