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半導体用マスク描画装置を3台受注

2021年10月26日 - Mycronic AB(マイクロニック、本社:スウェーデン、日本法人:マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長:呉 健治)は本日、フォトマスク描画装置SLXを米国の既存顧客から3台受注したことを発表しました。受注金額の価格帯は2,000~2,400万USドルで、1台は2022年第4四半期に、残り2台は2023年第1四半期に出荷される予定です。 レーザーマスク描画装置SLXは、半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、今後予想される老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。半導体製造におけるフォトマスクの約70~75%がレーザーマスク描画装置によって描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。最新の半導体用マスク描画装置SLXは、マイクロニックのディスプレイ用マスク描画装置と同じ技術をベースにしています。 マイクロニック 描画装置担当上級副社長Charlott Samuelssonのコメント: 「弊社既存のお客様が追加で3台のSLX装置を注文して頂けたことを誇りに、光栄に思います。SLXは持続可能性を念頭に置いて開発されており、性能と生産性を確保するだけでなく、エネルギー消費量を大幅に削減する最新の設計となっております。」

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