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ディスプレイ用最先端マスク描画装置 Prexision 800 Evo を受注

2020年3月4日 - Mycronic AB(マイクロニック、本社:スウェーデン、日本法人:マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長:榎本 弘)は本日、ディスプレイ用フォトマスク描画装置Prexision 800 Evoをアジア地域で受注したことを発表しました。受注金額の価格帯は3500~4000万USドルで、2021年第1四半期に出荷される予定です。 マイクロニックはフォトマスクを製造するマスク描画装置をご提供しており、様々な分野で使用されています。ディスプレイ(テレビ、スマートフォン、タブレット等)用及びマルチパーパス用の描画装置を取り揃えており、幅広いアプリケーションに対応することが可能です。それに加えて、マイクロニックは半導体用レーザーマスク描画装置の新製品「SLX」を先日発表しました。 フル機能のPrexision 800 Evoは、生産性を維持しながら、従来機に比べ約25%高精細なパターンを描画できます。これにより、スマートフォンやタブレット向け有機ELディスプレイ用の最先端でクリティカルなフォトマスクの効率的な生産を実現します。 マイクロニック 描画装置担当上級副社長Charlott Samuelssonのコメント: 「今回で4台目となるPrexision 800 Evoの受注は、

在不牺牲效率的前提下,如何在建筑施工中实现可持续性?混合城市新倡议召唤创新想法。

芬林梅沙木业混合城市新倡议正寻找令建筑更具备可持续性、同时又维持现有建筑施工方法效率的创新之道。改善可持续性迫在眉睫:仅仅建筑施工本身消耗了全球50%的资源。可是,只有在建筑公司能维持施工效率时,转变才会发生。世界需要“B计划”。 建筑行业通常以混凝土和钢材作为主要施工材料, 建筑施工本身消耗全球一半的资源,其产生的二氧化碳排放占总排放量的30%。 市场愈发需要更具可持续性的建筑,践行负责任理念的公司正为满足这样的需求而倍感重重压力。在不牺牲效率的前提下,满足此类需求的解决方案是混合建筑结构,也就是将木材和其他建筑材料实用地整合在一起的模块化建筑结构。 “改善建筑施工的可持续性所面临的挑战在于,建筑公司被要求同时变更建筑材料和施工方法。其结果并不理想,”芬林梅沙木业业务发展高级副总裁Mikko Saavalainen说,“我们应该反其道而行之,通过开发契合当前施工方法的可持续建筑构件,帮助建筑公司更好地适应转变。混合结构即是解决方案。” 一位著名的建筑师断言“混合城市才是更好的城市”——原因在于: 所有建筑材料都拥有属于自己的优势,但木材是唯一一种 可储存碳的材料。因设计悉尼天狼星大厦而闻名的建筑师Tao Gofers指出,通过将非再生材料替换为像Kerto[®] LVL 

奥运芬林馆项目让建筑行业专家们齐聚一堂、通力协作

木结构的奥运芬林馆将在东京的芬兰驻日大使馆内建成。芬林馆是由Kerto LVL(层积材)打造的装配式预制木构件搭建而成的。Kerto LVL层积材的生产商——芬林梅沙木业,将此次合作项目视为木结构建筑发展的重要推动力。芬林馆这样的项目为建筑行业专业人员创造了一个完美的契机,让大家齐聚一堂、分享知识——充分发挥了Kerto LVL层积材作为建筑材料所具备的快捷、轻质、绿色的特性。 位于芬兰洛维萨的构件工厂Timberpoint负责加工木质构件。 “基于木材本身以及木材用途的信赖,正推动着木结构建筑领域的发展。为实现这一发展,建筑商、建筑师、材料生产商和构件工厂需要通力合作。”Timberpoint的合伙人Marko Suonpää解释道。 在项目规划和建造的不同阶段中进行合作,还有助于提升产业效率:构件工厂可在早期阶段即参与到规划流程中,因此构件加工时能以最高效率及时完成。所有构件的加工仅花七周即完成了。 在合作中优化设计 芬林馆项目从一开始就处处彰显出合作的力量。芬林梅沙木业让各种专业人员汇聚一堂,并与之分享Kerto LVL层积材所具备的各种性能的知识。每个参与者都专注于他们各自的核心专业领域及相关专业知识。 “我们并未使用任何新技术。我们凭借已有技术开展工作。”芬林梅沙木业技术客户服务总监Jussi Björman说道。“

半導体用マスク描画装置SLXを受注

2020年2月18日 - Mycronic AB(マイクロニック、本社:スウェーデン、日本法人:マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長:榎本 弘)は本日、半導体用フォトマスク描画装置SLXをアジア地域の顧客から受注したことを発表しました。ご発注頂いたのはマイクロニックの装置を既に複数台保有している顧客です。今回受注したコンフィギュレーションのSLXの価格帯は300~400万USドルで、2020年第4四半期に出荷される予定です。   2019年10月に発表されたレーザーマスク描画装置SLXは、長期的なトレンドを背景に半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、今後予想される老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。半導体製造におけるフォトマスクの約70~75%がレーザーマスク描画装置によって描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。最新の半導体用マスク描画装置SLXは、ディスプレイ用マスク描画装置と同じ技術をベースにしており、先日発表したEvoコントロールプラットフォームを搭載しています。   マイクロニックはフォトマスクを製造するマスク描画装置を提供しており、様々な分野で使用されています。ディスプレイ(テレビ、スマートフォン、タブレット等)用、

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