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半導体用マスク描画装置 SLX を受注

Mycronic AB(マイクロニック、本社:スウェーデン、日本法人:マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社⾧:呉 健治)は本日、フォトマスク描画装置 SLX をアジア地域の新規顧客から受注したことを発表しました。受注金額の価格帯は 400~600 万 US ドルで、2023 年第 4 四半期に納入予定です。 レーザーマスク描画装置 SLX は、半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、今後予想される老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。半導体製造におけるフォトマスクの約 70~75%がレーザーマスク描画装置によって描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。最新の半導体用マスク描画装置 SLX は、マイクロニックのディスプレイ用マスク描画装置と同じ技術をベースにしています。 マイクロニック 描画装置担当上級副社⾧ Charlott Samuelsson のコメント:「SLX の性能、生産性、信頼性及び省エネ性能が、半導体用フォトマスクを製造する新しいお客様を開拓することにつながり嬉しく思います。」 マイクロニックの描画装置部門はディスプレイ製造用および半導体製造用のマスク描画装置を提供しています。

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